3年突破光刻机，15年破解所有芯片技术，我们真的行吗？

国产光刻机，要来了？

5月底，北大林毅夫教授在“2021年中国企业未来发展论坛”上表示：ASML的CEO彼得·维尼克担心不把光刻机卖给中国，大概3年后中国就会自己掌握这个技术。

从以往经验来看，中国的生产成本将会比国际上便宜，那时ASML可能将退出世界光刻机市场。

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其实维尼克已经不止一次表示过这种担忧，5月初白宫半导体CEO视频峰会后，他就曾表示“对华出口管制将迫使中国争取技术自主，15年内他们将做出所有东西。”

2018年以来，芯片和光这种生僻的名词突然爆火。众所周知，我国在芯片领域被严重卡脖子，高端光刻机更是无从谈起。

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但荷兰ASML作为光刻机领域绝对霸主，它敢说中国3年内掌握光刻机，15年内掌握芯片所有技术，必然是经过专业推测。

中美竞争愈演愈烈背景下，我们离自主光刻机到底还有多远？

壹

芯片对21世纪全球科技竞赛有多重要，我们已讲过多次。

比如足以改变人类未来的5G、AI、大数据、物联网等技术，没有高精度芯片作为基础，一切都无从谈起。

简单来说，芯片的重要性已超越石油，成为驱动世界经济增长的新动力。

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在芯片产业链中，制造困难、工艺复杂的光刻机又是关键所在。它在全球科技界的地位，就像蒸汽机、发电机、计算机之于前三次工业革命。

有人说光刻机比原子弹难造，为啥？因为这玩意自己搞不来，必须集合全人类智慧。

当今光刻机市场，荷兰ASML一家独大，能与之在中端光刻机较量的只有日本尼康、佳能，而7nm以下的高端光刻机完全被ASML垄断。

ASML垄断的高端光刻机分为种，深紫外线光刻机（DUV光刻机），可用于生产7nm及以上制程芯片；极紫外线光刻机（EUV光刻机），可用于生产7nm以下制程芯片。

这个EUV光刻机就是最强王者，它以紫外光为刀，把设计好的电路刻画到硅晶圆表面的光刻胶上，精密度要求极高，比如它造出的华为、苹果的5nm芯片每个都内含100多亿个晶体管。

作为芯片产业皇冠上的明珠，EUV光刻机极其珍贵。单台售价高达1.2亿美元，配件多达10万个，全球供应商超5000家，集齐全球顶尖技术才制造出来。

在整个EUV光刻机里，荷兰腔体和英国真空占了32%，美国光源占了27%，德国光学系统占了14%，日本的材料占了27%。

所以中国工程院吴汉明院士说过，如果让一个国家或者一个地区做一个EUV光刻机是不现实的。

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高端光刻机难造还有另一层原因，原子弹这样的国之重器我们可以不计成本去研发，但光刻机毕竟是市场化的产物，要考虑经济效益。

所以不完全是比原子弹难造，而是以前没到非造不可的那步。

贰

5月12日，美国通过了一个《无尽前沿法案》，这个法案主要针对科学领域。

目的是通过投资美国科创，创造高薪的美国制造业和高科技工作岗位，从而增强美国对中国及其他国家的竞争力。

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具体内容包括5年内向美国国家科学基金会投资约1000亿美元，支持AI、量子计算、网络安全等十大未来新兴科技领域的研究。

这标志着冷战后，美国重新认识到科技振兴与政府主导关键科技创新的紧迫性，对中国的影响不言而喻。

光刻机如此重要的环节，美国自然不会放松。按美国出口新规，荷兰ASML禁止对华出口EUV光刻机，所以中芯国际先进制程至今被卡在14nm，未来大概率还是被限制。

那怎么办，总不能永远被卡脖子吧，举国之力发展芯片等基础科技已成大势所趋。

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10年来，我们疯狂发展新能源车产业，就是为了摆脱石油依赖。如今芯片代替石油，成为中国进口额最大的商品，这层依赖也需要被打破了。

我国光刻机目前在不断追赶，唯一量产光刻机的厂商是上海微电子，28nm工艺的国产光刻机预计今年底就能交货，虽然和ASML的EUV光刻机相差甚远，但已经可以满足中端芯片需求。

据此推算，我们离高端光刻机并非遥不可及。

当然，不管ASML所说的3年搞定光刻机，15年实现所有芯片技术是不是捧杀、麻痹中国，总之我们唯有埋头苦干，打破垄断一条路可走。

3年突破光刻机，15年破解所有芯片技术，我们真的行吗？

其实不只光刻机是这样，整个中国科技领域也是如此。

过去10年，我们引以为傲的移动互联繁荣，其实是建立在别人基础上的。无论BAT、美团、抖音的应用，还是华米OV的手机，都需要欧美日韩的芯片、存储器、软件来支撑。

这不叫科技创新，只能称为模式创新，这点自觉还是要有的。

再举个例子，为啥欧美有那么多假期，但我们还在996，BAT这样的大厂甚至更严重。说白了还是以勤奋换发展，而非科技创新驱动。

一切证明，依靠人口红利赚快钱的模式创新之路已然走到尽头，未来想要突破中等收入陷阱，化解内卷，那只能靠科技创新。

科技创新不同于以往，芯片、AI、航空航天、生物医药，这些都需要长期的科研投入，也就是抛弃短期主义拥抱长期主义。

唯有如此，国产芯片的未来，以及中国高科技的未来才有希望！

来源：今日头条