“光刻机比原子弹、核航母还难造？”，这个话题一直都是科研里的热门话题之一。想要解析此问题，还需要从光刻机三大核心之一的物镜系统开始说起，唯有造出媲美卡尔蔡司的光学镜头，才有资格去谈光刻机的“逆向”突破。相信摄影圈的一些朋友早已经知晓答案，先进的光学镜头、和自动对焦，目前仍不是中国的强项。

我们要知道，当初日本索尼消耗巨资注入卡尔蔡司，为光学影像部门制造了优秀摄像镜头产品。所以Zeiss镜头（和其他摄影产品），都打着“Sony”的标志，这些基本上都是来自“索尼蔡司镜头”的亚洲工厂，然而真正意义上的卡尔蔡司原厂镜头，其产地源依然是欧洲。

可能很多人认为这是在“涨他人志气灭自己威风”，但现实就是这样的残酷，蔡司制造出来的高素质镜头玻璃、还有镀膜的原材料，在德国法律上是禁止出境的。作为民用消费级别的摄像镜头，竟被如此铜墙铁壁般地“保护”起来，以此可知，光刻机物镜系统里的光学镜头是何等级别的保密。

光刻机又被叫做“掩模对准曝光机”，“光刻系统”，“曝光系统”等等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺是需要经历硅片表面的清洗和烘干，还有旋涂光刻胶、对准曝光、后烘、软烘、硬烘、显影和刻蚀等工序。

光刻机制造的难度有几个关键的部分组成：

1）光源：光刻机制造的难度，其光源必须要稳定，且高质量地提供指定波长的光束。

2）透镜：所谓的透镜，就是用透镜的光学原理，把掩膜版上的电路图按照比例缩小，然后再利用光源映在硅片上。因为光在多次投射的时候会产生光学误差，所以想要控制好这个误差，需要的精确度要非常高。

3）掩膜版：掩膜版就相当于过去洗照片的底片，如果底片精确度不足的话，就洗不出高精度的照片。光刻机在施工之前，需要根据设计好的芯片电路图去制作掩膜版，就是所谓的石英玻璃材质，玻璃上要有感光胶和金属铬，后续通过激光在金属铬上绘制电路图，这个过程的精度要求是非常高的。

4）能量控制器：能量控制器就是电源，在制造光刻机的时候电源要稳定，功率还一定要足够大，否则光源发生器是没有办法稳定工作，在大、稳的同时还要考虑经济性能，如果耗电太高的话客户就用不起。

光刻机的难度，除了以上四种关键部分组成之外，在资金上的困难也是发展的一大阻挠。光刻机的技术太难，以至于研发的资金也需要投入巨大，索尼和佳能就是典型的例子，他们的亏损都非常大，现在已经停止研发并退出未来技术的竞争。

转自网易